感光性干膜"Photec"

特点

SL1300系列

• 代表性干膜型号：SL-1329/1338
• 适用于直接成像355nm波长的曝光系统
• 高感光特性，可以有效提升生产效率
• 优良的解析度和密着特性，有助于精细线路的形成
• 高对比性，曝光与未曝光的干膜颜色对比度明显，有助于提升对品质的检查

SL-1329/SL-1338的一般特性（测试数据的一例）

特性		SL-1329	SL-1338
适用工艺		盖孔/蚀刻	盖孔/蚀刻
感光ST（ST=X/41）		17±3	14±3
曝光能量（mj/cm2）	ST=14/41	8	9
	ST=17/41	11	12
	ST=20/41	15	16
最短显影时间（sec）		21	29
解析度	ST=14/41	25	30
	ST=17/41	20	27.5
	ST=20/41	25	27.5
密着性	ST=14/41	27.5	32.5
	ST=17/41	22.5	27.5
	ST=20/41	17.5	22.5
圆孔破孔率（显影1，2，3次：%）	Ф6mm	0，2，9	0，0，4
	Ф5mm	0，0，0	0，0，0
	Ф4mm	0，0，0	0，0，0

SL1800系列

• 代表性干膜型号：SL-1820/1825
• 适用于直接成像355nm波长的曝光系统。
• 高感光特性，可以有效提升生产效率。
• 优良的解析度和密着特性，有助于精细线路的形成。

SL-1825显影后的侧壁（L/S=30/30um）

SL-1820/SL-1825的一般特性（测试数据的一例）

特性		SL-1820	SL-1825
适用工艺		盖孔/蚀刻	盖孔/蚀刻
感光ST（ST=X/41）		17±3	17±3
曝光能量（mj/cm2）	ST=14/41	8	10
	ST=17/41	10	13
	ST=20/41	14	19
最短显影时间（sec）		13	14
解析度	ST=14/41	13	25
	ST=17/41	22.5	20
	ST=20/41	15	17.5
密着性	ST=14/41	22.5	25
	ST=17/41	15	20
	ST=20/41	12.5	17.5